年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99,996 %)

三氟化氮（Dusík Trifluorid），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领域。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半忼体老幽潽显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀咒⼦蚀刻⽓体养刻⽓体刻⽓体刻⽓体刻⽓体刻⽓体刻清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放瞬间放凰嶰应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推追゛和推追゛和推追和推追゛

Fluorid dusnatý, chemický vzorec NF3, je silné oxidačné činidlo. Ako dôležitý priemyselný špeciálny plyn má široké uplatnenie.
V mikroelektronickom priemysle je fluorid dusitý vynikajúcim plynom na leptanie plazmou; V polovodičových čipoch, plochých displejoch, optických vláknach, fotovoltaických článkoch a iných výrobných oblastiach sa fluorid dusitý používa hlavne ako plazmový leptací plyn a prostriedok na čistenie reakčných dutín.
Môže byť tiež použitý vo vysokoenergetických chemických laseroch na dosiahnutie jeho aplikácie reakciou s vodíkom, aby sa v okamihu uvoľnilo veľké množstvo tepla. Fluorid dusnatý sa tiež používa ako vysokoenergetické palivo a ako okysličovadlo a pohonná látka pri štartoch rakiet.